Le procédé de nettoyage de surfaces par CO2 supercritique permet de :
- Proposer une alternative aux solvants conventionnels type perchloréthylène, trichloréthylène
- Eliminer les résidus de solvants ou d’agents utilisés dans le traitement de surface de composés type semi-conducteurs, supports magnétiques
- Nettoyer à coeur une matrice solide poreuse
Voir aussi :ImprégnationExtraction par CO2 supercritique
Principaux domaines d'application
- Micro-électronique
- Textile
- Mécanique de précision
Exemples de développement ou de production industriels
- Nettoyage à sec de textiles aux Etats-Unis
- Nettoyage de disques de silicium pour l'industrie du semiconducteur
- Nettoyage de circuits électroniques
Le principe de nettoyage de surfaces par CO2 supercritique
Il consiste à utiliser les propriétés de solvant du CO2 supercritique pour solubiliser les éléments à éliminer. Le CO2 supercritique étant très sélectif, des additifs type co-solvants, agents complexants, tensio-actifs peuvent être ajoutés. L’utilisation de forces mécaniques type panier rotatifs est également nécessaire comme dans les procédés de nettoyage conventionnels.